공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[280]
| 77138 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20425 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57335 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68873 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92897 |
722 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1] | 193 |
721 |
LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다.
[1] | 160 |
720 |
플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거
[1] | 431 |
719 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문
[1] | 244 |
718 |
[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스
[1] | 681 |
717 |
ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다
[1] | 865 |
716 |
Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[1] | 1491 |
715 |
메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
[1] | 296 |
714 |
안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
[1] | 455 |
713 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
[1] | 377 |
712 |
corona model에 대한 질문입니다.
[1] | 176 |
711 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부
[1] | 221 |
710 |
plasma 공정 중 색변화
[1] | 674 |
709 |
ISD OES파형 관련하여 질문드립니다.
[1] | 455 |
708 |
PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
[1] | 416 |
707 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 638 |
706 |
E-field plasma simulation correlating with film growth profile
[1] | 326 |
705 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
[1] | 1078 |
704 |
OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다.
[1] | 620 |
703 |
self bias
[1] | 549 |