안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.

 

어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.

 

Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데

 

RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?

 

알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77218
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92950
706 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 499
705 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 500
704 plasma striation 관련 문의 [1] file 500
703 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 501
702 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 507
701 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 513
700 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 521
699 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 522
698 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 527
697 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 537
696 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 538
695 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 549
694 self bias [1] 552
693 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 554
692 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 554
691 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 555
690 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 566
689 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 574
688 핵융합 질문 [1] 576
687 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 576

Boards


XE Login