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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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804 |
Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파]
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803 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
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802 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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801 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
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800 |
ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
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799 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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798 |
PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다.
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797 |
스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해]
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796 |
공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
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795 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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794 |
Druyvesteyn Distribution
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793 |
플라즈마 식각 커스핑 식각량
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792 |
Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
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791 |
C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책
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790 |
DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown]
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789 |
진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy]
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788 |
플라즈마 설비에 대한 질문
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787 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해]
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786 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해]
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785 |
skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
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