연도 2006 
저널명 한국진공학회지 

한국진공학회||2006||15||3||246||258||정경재, 최재명, 황휘동, 김곤호, 고광철, 황용석||한국||

 

음의 고전압의 인가에 따라 반응하는 동적 플라즈마를 부하로 갖는 PSII(plasma source ion implantation) 펄스 시스템을 분석하기 위한 회로 모델을 개발하였다. 플라즈마 내에 삽입된 평판 전극 앞에서의 플라즈마 쉬스의 움직임은 동적 차일드-랑뮤어 쉬스 모델을 따르는 것으로 가정하였다. 표적 전극에 흐르는 전류는 전극에 인가되는 전압과 서로 영향을 주며 변하므로 동적 플라즈마 부하를 전압 의존 전류 원으로 표현하여 자기모순이 없는 회로 모델을 구현하였다. 회로 해석은 Pspice 프로그램을 이용하여 수행하였으며, 다양한 플라즈마 조건과 펄스인가 조건에서의 실험 결과와 비교하여 회로 모델의 타당성을 검증하였다.

A circuit model has been developed to analyze characteristics of the PSII(plasma source ion implantation) pulse system with dynamic plasma load. The plasma sheath in front of the immersed planar target biased with a negative-high voltage pulse is assumed to be governed by the dynamic Child-Langmuir sheath model. Target current is self-consistently varied with the applied voltage by using the voltage-controlled current source in the circuit model. Circuit simulations are conducted with Pspice circuit simulator, and simulated pulse currents and voltages on the target are compared and confirmed with experimental results for various voltage pulses and plasma conditions.



 

연도 저널명 제목 조회 수
2006  Journal of the Korean Physical Society  Capacitance Between an Atmospheric Discharge Plasma and the Dielectric Electrode in the Parallel Cell Reactor 6538
2010  Carbon  Mechanism of cone-shaped carbon nanotube bundle formation by plasma treatment 6835
2019  반도체디스플레이기술학회지  할로겐 플라즈마에 의한 Ge2Sb2Te5 식각 데미지 연구 6849
1997  Surface & Coating Technology  Polymer Surface Modification by Plasma Source Ion Implantation 6963
2001  Surface & Coating Technology  The measurement of nitrogen ion species ratio in the inductively coupled plasma source ion implantation 7063
2006  Contributions to Plasma Physics  In-Situ Method of Monitoring Argon Plasma Density Variation Using Current and Voltage of Flat Antenna in Inductively Coupled Plasma Source 7190
2000  Applied physics letters  Influence of Electrode-Size Effects on Plasma Sheath Expansion 7307
2006  Journal of the Korean Physical Society  Optimum Operating Frequency of an Atmospheric-Pressure Dielectric-Barrier Discharge for the Photo-Resistor Ashing Process 7308
2011  IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE  Hydroxyl Radical Generation on Bubble Surface of Aqua-Plasma Discharge 7431
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1998  Physics of Plasmas  Azimuthally Symmetric Pseudosurface and Helicon Wave Propagation in an Inductively Coupled Plasma at Low Magnetic Field 7634
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2010  Thin Solid Films  Effects of argon and oxygen flow rate on water vapor barrier properties of silicon oxide coatings deposited on polyethylene terephthalate by plasma enhanced chemical vapor deposition 8235
2006  한국진공학회지  PSII 펄스 시스템의 동적 플라즈마 부하 회로 모델 개발 8454
2009  Journal of Korean Physical Society  Effect of Bias Frequency on the Accuracy of Floating Probe Measurements 8551

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