Deposition 증착에 대하여...
2004.06.19 16:52
저희도 증착 실험을 시도하고 있기도 합니다만 증착에 관한 경험은 많지 않습니다. 단지 도구로 사용하는 플라즈마의 특성에 관해서 공부를 조금 하고 있는 정도입니다.
예전 저희 경험으로는 Cu의 경우 sputtering에 의해서는 매우 증착이 잘 되었습니다. 하지만 지금 같은 MO에서도 잘 될 것 같은데, 산소가 너무 많지 않은가 하는 생각되 있긴 합니다. 개인적인 생각으로 현재 장치에서는 처부해야할 부분이 있다면, 박막의 성장 조건을 마련하기 위해서 (일단 시편이 얇은 경우면 DC도 가능하겠지만) self-bias를 인가할 수 있는 substrate를 제작하셔야 할 것 같습니다. 아울러 온도 조절도 가능하면 좋을 것입니다. 박막 제조를 n이해서는 시편의 온도, 시편 위에서의 전위 (이 경우 self bias)등의 조건을 매우 중요합니다. 일단 위의 두가지 조건을 변화할 수 있으면 변화해 보기 바랍니다. 이 점은 다른 박막 실험을 위해서도 필요하니 신경쓰시기 바랍니다. 또한 박막의 제만 의문점에 대해서는 저희 학과의 안 일신 교수님 (전화 031-400-5478/ 혹은 ilsin@hepth.hanyang.ac.kr)로 문의해 보시기 바랍니다. 박막에 대한 많은 경험을 갖고 계신 분입니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] | 98496 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 23890 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 60568 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 72446 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 103230 |
52 | rotational vibration excitation [TLD와 IRLAS] | 18289 |
51 | 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] | 20479 |
50 | DBD란 | 28053 |
49 | ccp-icp | 21904 |
48 | 플라즈마의 상태 | 14187 |
47 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28977 |
46 | 충돌 | 17860 |
45 | 유전체 플라즈마 | 17706 |
44 | sputtering | 18412 |
» | 증착에 대하여... | 18188 |
42 | nodule의 형성원인 | 16886 |
41 | 물리적인 sputterting | 18464 |
40 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15165 |
39 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29454 |
38 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20131 |
37 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 15936 |
36 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9807 |
35 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14896 |
34 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15832 |
33 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16163 |