Sputtering sputtering

2004.06.19 16:53

관리자 조회 수:18291 추천:257

질문은 산화 크롬막을 좀더 두껍게 입히고 백스퍼터링을 통하여 막위에 있는 불순물, 파티클을 없애고 순수 크롬을 입히는 방법...에 대한 내용입니다.

이론적으로는 가능할 것 같습니다. 저희도 경험이 있는 것은 아니어서 정확히 말씀드릴 수는 없습니다. 하지만 이런 예는 많이 있습니다. 표면에 막을 입히기 전에 표면의 전처리를 플라즈마를 이용하여 합니다. 이때 타겟에 약한 음전압을 걸고 질량이 무거운 Ar등의 개스를 써서 약간의 tm퍼터링으로 표면에 있는 산화막등을 제거한 후에 본 처리를 하는 방법으로 이미 많이 사용하는 방법입니다. 질문하신 내용은 이 방법을 공정 사이에 넣겠다는 생각으로 보이며 따라서 가능할 것 같습니다. 문제는 어느 조건의 스퍼터링이 효율적인가에 관한 공정 recipe을 얻기냐 인데 이는 실험을 통해서 구할 수 밖에 없을 것 같습니다. 좋은 결과를 기대합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76732
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
789 플라즈마 설비에 대한 질문 21
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 37
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 53
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 59
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 64
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 69
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
782 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 81
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 86
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 101
779 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 113
778 Microwave & RF Plasma [1] 115
777 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 115
776 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 124
775 skin depth에 대한 이해 [1] 127
774 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 133
773 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 138
771 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 147
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 151

Boards


XE Login