ICP ICP TORCH의 냉각방법 [냉각수와 와류]

2004.06.21 15:30

관리자 조회 수:16009 추천:261

질문 ::

ICP TORCH에 관하여 문의를 드립니다.
ICP TORCH를 이용 유리와 같은 물질을 가열하는 장치를 연구하고 있는데 TORCH의 구조는 COIL과 QUARTZ관으로 구성되며 QUARTZ관은 내경50mm정도입니다. GAS는 Ar을 사용하고 있는데 문제는 발생된PLASMA가  COIL내에서 발생되므로 QUARTZ관까지 녹는 현상이 발생됩니다. 코일은 3 -4 TURN으로 하였는데 코일밖에서 PLASMA를 발생시킬 수 는 없는지요? 아니면 QUARTZ관이 가열되지 않는 방법이 있는지 알고 싶습니다.

답변 ::

말씀하신 장치에 대해서는 직접 보지 않아 개념적인 답변을 드릴 수 밖에 없을 것 같습니다.
1 . 일단 안테나 coil을 냉각수로 냉각하도록 하십시오.
2.  입력 개스의 흐름을 유리관 벽에서 와류가 생겨 유리관으로 전달되는 열을 가급적 차단하도록
    개스흐름을 조절하십시오.
일반적으로 이상의 방법을 사용하고 있습니다.
도움이 되었기를 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102101
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24547
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61196
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73267
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105482
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27580
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41637
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23614
210 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20430
209 surface wave plasma에 대해서 [Microwave와 electron temperature] [1] 18784
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23404
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21486
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24177
205 질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp] [1] 19411
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision] [1] 21590
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 25169
202 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26878
201 몇가지 질문있습니다 16644
200 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22225
199 Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] 18435
198 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30035
197 TMP에 대해 다시 질문 드립니다. 18443
196 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19450
195 [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19871
194 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22797

Boards


XE Login