Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19354 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76988
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20335
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57260
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68804
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92803
801 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 20
800 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 21
799 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 23
798 Druyvesteyn Distribution 25
797 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 34
796 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 37
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 41
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 44
793 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 68
792 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 74
791 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 77
790 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 81
789 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 84
788 플라즈마 설비에 대한 질문 84
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 88
786 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 96
785 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 102
784 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 102
783 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 104
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 127

Boards


XE Login