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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68898
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146 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 656
145 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 650
144 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 642
143 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 639
142 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 634
141 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 631
140 RF Sputtering Target Issue [2] file 631
139 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 630
138 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 629
137 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 628
136 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 628
135 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 624
134 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 619
133 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 618
132 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 612
131 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 606
130 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 605
129 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 605
128 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 605
127 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 602

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