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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20404 |
185 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22810 |
184 |
scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다.
[2] | 19232 |
183 |
Full Face Erosion 관련 질문
[2] | 19464 |
182 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26509 |
181 |
상압 플라즈마 관련 문의입니다.
[1] | 21524 |
180 |
RF에 대하여...
| 32099 |
179 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24213 |
178 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24996 |
177 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치
[1] | 18883 |
176 |
RF plasma에 대해서 질문드립니다.
[2] | 21003 |
175 |
floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점
[2] | 22862 |
174 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22586 |
173 |
glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
| 21785 |
172 |
self bias (rf 전압 강하)
| 26778 |
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궁금합니다
[1] | 16181 |
170 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 31615 |
169 |
핵융합과 핵폐기물에 대한 질문
| 16024 |
168 |
AMS진단에 대하여 궁금합니다
| 19056 |
167 |
Three body collision process
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