Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19633 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24544
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61190
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73242
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105459
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다. [Corona breakdown, current density] [1] 1003
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 6915
371 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 2954
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4021
369 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] 784
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1729
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2717
366 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2118
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2686
364 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2590
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2114
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 1153
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1294
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1633
359 DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"] [3] 11942
358 ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] 13026
357 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 1061
356 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2225
355 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [Self bias와 matcher] [1] 9781
354 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [MFC와 H2 gas retention] [3] 3260

Boards


XE Login