Others TMP에 대해 다시 질문 드립니다.
2009.09.27 23:42
저희 장비에는 TMP컨트롤러가 설치되어 있지 않습니다.
그렇기 때문에 앞서 질문드렸던 것 처럼 정지시까지 3시간 OFF time을 주고 있습니다.
문제는 이 3시간 입니다.
어떤 사유로 실험을 반복 한다든지 아니면 늦게 시작 한다 든지 ...
이럴 땐 TMP off time 3시간이 정말 길게 느껴지네요...
제가 느끼기에 TMP on또는 off 시 제트엔진 소리가 들립니다.
그리고 실험 과정에서도 챔버와 게이트밸브의 열고 닫음을 제트엔진 소리체크 합니다.
하지만 제트엔진 소리 10분 내에 사라집니다.
그럼 제트 엔진 소리가 들리지 않는다는것은 TMP가 멈추었다는 거 아닌가요???
전원을 내려도 되는 거 아닙니까??
TMP RPM이 0 에 올때까지 얼마나 걸리나요?
그것이 TMP OFF 인데...아무리 생각해도 3시간이란 시간은 너무 긴거 같아서요..
인터넷에서 저희 가 사용하는 TMP 메뉴얼 찾아보고 있는데 상당히 짜증납니다.
3시간 기다리는것도 지겨워 죽겠고...
오늘도 실험실에서 자정을 넘기며~ 글을 남깁니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77200 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20461 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57359 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92944 |
386 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2320 |
385 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2301 |
384 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2294 |
383 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2290 |
382 | 플라즈마볼 제작시 [1] | 2268 |
381 | Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] | 2267 |
380 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2257 |
379 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2187 |
378 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2169 |
377 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2166 |
376 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 2153 |
375 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 2151 |
374 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 2150 |
373 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2139 |
372 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 2087 |
371 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2058 |
370 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2049 |
369 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 2041 |
368 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2039 |
367 | chamber impedance [1] | 2030 |