Sputtering 몇가지 질문있습니다

2009.11.10 20:51

정세훈 조회 수:16578 추천:139

안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
답변부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20285
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92714
459 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4218
458 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4167
457 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4061
456 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3999
455 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
454 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3974
453 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3969
452 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3969
451 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3884
450 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3845
449 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3814
448 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3770
447 Descum 관련 문의 사항. [1] 3746
446 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3720
445 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3659
444 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3651
443 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3568
442 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3567
441 ESC Cooling gas 관련 [1] 3562
440 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3559

Boards


XE Login