CCP CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.

2010.01.28 19:44

kailo 조회 수:23404 추천:157

안녕하세요? 궁금한게 있어서 여쭤봅니다.
Source는 CCP방식입니다. 13.56MHz로 구동되고 matcher 단에서 low pass filter를 통해 나오는 Vdc 값을 모니터링합니다.
그런데 Source 전극에 anodizing처리를 했는데 품질이 좋지 못한 anodizing의 경우에는 Vdc 값이 "-"로 뜨는데 고품질 anodizing의 경우에는 "+"값을 띕니다.
고품질의 경우에는 CCP 소스면에서 완전히 floating되어서 그러는것 같은데
정확한 메카니즘을 이해할 수 없어서 문의드립니다.
왜 "+"값을 나타내는지에 대해 설명해 주실수 있는지요?
플라즈마 방전은 저품질이나 고품질 모두 이상없이 뜹니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102081
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24544
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61190
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73242
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105459
333 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1434
332 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응] [2] 7176
331 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1670
330 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 468
329 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe] [3] 6462
328 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1300
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정] [4] 6914
326 핵융합 질문 [NFRI 국가핵융합 연구소] [1] 798
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 864
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] 2300
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7925
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power] [2] 1535
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1580
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성] [1] 6218
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient] [1] file 6914
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9562
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6432
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2860
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4751
314 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1765

Boards


XE Login