안녕하십니까?
저는 RF관련한 챔버,매칭박스,제네레이터 관련한 업무를 시작하게된 강철호라고 합니다,
공정 진행중 여러가지 원인에 의한 챔버의 임피던스 변화를 RF 제네레이터와 매칭 시키기 위해 매칭 박스를
이용한는 것으로 알고 있습니다..
여기서 질문입니다.
챔버의 임피던스가 변한다는것이  임피던스가 증가하는것인지,감소하는 것인지, 또는 2가지 경우가  랜덤하게
진행 되는 것인지 궁굼합니다..
만약 임피던스가 증가한다면 매칭박스가 어떤 원리로 매칭박스+챔버의 임피던스를 50Ω 으로 매칭할수 있는지
모르겠습니다.
너무 기초적인 지식이 없어 열심히 공부하려고 하니  성의 있는 답변 부탁드립니다