Others 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [Enthalpy probe]

2010.06.08 13:16

지성훈 조회 수:23179 추천:94

안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.
우선 우리 회사에서 연구개발하는 여러 가지 중에 한 영역이 플라즈마 토치를 개발하는 프로젝트입니다.
이미 개발을 마치고 상용화에 성공한 토치가 많이 있습니다만, 이번에 개발하는 토치에 대해서
enthalphy를 분석하고자 합니다. 혹시 서울대 lab에서 enthalphy probe를 보유하고 있는지 여부와
enthalphy probe를 우리 장비에 측정이 가능한지 문의드리고 싶습니다.


h.p. : 010-6417-0500
tel : 042-478-9800

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 232590
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 68039
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 105159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 117345
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 199749
218 플라즈마 진단법에 대하여 [플라즈마 진단과 Spectroscopy] [1] 23671
» 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [Enthalpy probe] [1] 23179
216 UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] 23522
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 27899
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25951
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 30133
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 42789
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 24462
210 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 22719
209 surface wave plasma에 대해서 [Microwave와 electron temperature] [1] 21004
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 24326
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 23830
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 26323
205 질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp] [1] 21164
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision] [1] 23498
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 27787
202 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 29112
201 몇가지 질문있습니다 17453
200 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 24423
199 Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] 20260
쓰기
태그

Boards

XE Login