Sputtering Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
2010.12.16 20:59
안녕하십니까?
Sputter Process 에 대해 담당중인 1인 입니다.
몇가지 문의점이 있어 문의 드립니다.
1. Sputter 시에 Gas Reaction 의 반응은 어떻게 일어나는 것인지 궁금합니다.
저희는 주로 O2, N2, CH4, NO 등등의 반응성 Gas 를 사용하여 막질의 변형을 이루고자 하고 있습니다.
이러한 Gas 들의 반응에 대하여 알 수 있는 방법이 없을까요?
반응들이 일어나는 Mechanism 을 알 수 있다면 막질에 대해 좀 더 정확한 평가가 가능하지 않을까요?
2. 현재 Glass 기판에 Sputter 증착을 한 후 SEM 으로 관찰을 진행하고 있습니다.
그런데, 박막 표면에서의 Charging 현상이 덜 하여 관찰이 가능한 샘플이 있는 반면,
일부는 Charging 현상이 심하여 SEM 으로는 관찰이 어렵습니다.(Gas 종은 위의 Gas 들을 사용하고 있습니다.)
기판 표면을 SEM 으로 관찰하고자 할 때, 이러한 Charging 현상을 감소 시킬 수 있는 방안은 어떤 것들이 있을까요?
어떤 Parameter 들의 영향인지 궁금합니다.
답변 부탁드립니다.
감사합니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77191 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20457 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57356 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92938 |
245 | 플라즈마와 비행기에 미쳤거든여....^ _ ^ ; | 15637 |
244 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15656 |
243 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 15702 |
242 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15816 |
241 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15894 |
240 | corona | 15895 |
239 | Sputter | 15902 |
238 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15923 |
237 | k star | 15958 |
236 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16010 |
235 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16024 |
234 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16055 |
233 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16084 |
232 | 궁금합니다 [1] | 16181 |
231 | 궁금해서요 | 16322 |
230 | 플라즈마의 어원 | 16349 |
229 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16522 |
228 | 몇가지 질문있습니다 | 16583 |
227 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16682 |
226 | nodule의 형성원인 | 16771 |