Others 반도체 관련 질문입니다.

2011.01.11 09:51

이두형 조회 수:28639 추천:110

안녕하세요.

반도체 배선이 좁아지면서 달라지는것이 무었이 있을까요?

예를들어 가스의 양이 늘어난다거나, Power가 세진다거나...

어떤 변화들이 있을까요?

답변 부탁드릴께요^^ 좋은 하루 되세요.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [321] 86461
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22670
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59375
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71134
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98379
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15961
244 Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] 15989
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 23029
242 cross section 질문 [Cross section에서의 collision] [1] 19915
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] 31457
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization] [1] 18067
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21392
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 24959
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22859
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법] [1] 19959
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [Electric field와 breakdown] [1] 20422
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31832
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 24811
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23437
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23040
230 대기압 플라즈마 40799
» 반도체 관련 질문입니다. 28639
쓰기
태그

Boards

XE Login