Others 반도체 관련 질문입니다.
2011.01.11 09:51
안녕하세요.
반도체 배선이 좁아지면서 달라지는것이 무었이 있을까요?
예를들어 가스의 양이 늘어난다거나, Power가 세진다거나...
어떤 변화들이 있을까요?
답변 부탁드릴께요^^ 좋은 하루 되세요.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77111 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20407 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57319 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68860 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92874 |
797 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144831 |
796 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134458 |
795 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95812 |
794 | Plasma source type | 79715 |
793 | Silent Discharge | 64561 |
792 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54984 |
791 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47951 |
790 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43712 |
789 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41284 |
788 | 대기압 플라즈마 | 40718 |
787 | Ground에 대하여 | 39498 |
786 | RF frequency와 RF power 구분 | 39100 |
785 | Self Bias | 36393 |
784 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35977 |
783 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34967 |
782 | PEALD관련 질문 [1] | 32653 |