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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 715 |
738 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 631 |
737 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 436 |
736 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다.
[1] | 324 |
735 |
plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다
[1] | 362 |
734 |
Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계
[1] | 595 |
733 |
RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다.
[1] | 274 |
732 |
반사파와 유,무효전력 관련 질문
[2] | 364 |
731 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 255 |
730 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
[1] | 630 |
729 |
Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다.
[1] | 577 |
728 |
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
[1] | 348 |
727 |
Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의
[1] | 488 |
726 |
chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
[1] | 369 |
725 |
반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 720 |
724 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?
[1] | 596 |
723 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
[1] | 399 |
722 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1] | 189 |
721 |
LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다.
[1] | 155 |
720 |
플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거
[1] | 418 |