안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102010
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24521
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61171
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73210
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105409
833 Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다. [1] 104
832 PEALD 챔버 세정법 [1] 169
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 205
830 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 270
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 360
828 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 483
827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 343
826 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 301
825 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 465
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 252
823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 715
822 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 408
821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 457
820 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 541
819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 715
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 872
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 435
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 559
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 706
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 639

Boards


XE Login