안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 232050
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 67649
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 104754
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 116933
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 199119
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 3525
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 4764
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 2266
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 3636
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 9314
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 8159
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 3596
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 4999
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 4562
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 25267
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 4511
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 3140
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 17129
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 3727
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 4279
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 10564
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 2867
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 2911
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 7044
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 5307

Boards


XE Login