안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 101217
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24319
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60963
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72958
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104914
193 플라즈마 측정기 [How Langmuir Probe Works] [1] 21545
192 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22532
191 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28946
190 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25014
189 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [전자 가열 매커니즘과 이온 에너지] [1] 19282
188 궁금해서요 16480
187 PM을 한번 하시죠 19799
186 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20622
185 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스] [1] 23202
184 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19453
183 Full Face Erosion 관련 질문 [2] 19631
182 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26813
181 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치] [1] 21744
180 RF에 대하여... 32542
179 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24414
178 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건] [2] 25250
177 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지] [1] 19153
176 RF plasma에 대해서 질문드립니다. [Sheath model, Ion current density] [2] 21333
175 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [Ambipolar diffusion, Floating potential] [2] 23070
174 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22801

Boards


XE Login