안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103480
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24738
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61560
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106005
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1879
673 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1410
672 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 1085
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1399
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 779
669 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1950
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1869
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실] [1] 717
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술] [1] 1048
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1319
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 1023
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 8255
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1828
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation] [1] 1014
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 881
659 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 2036
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용] [1] 786
657 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1629
656 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 885
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1377

Boards


XE Login