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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68905
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646 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 728
645 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 738
644 ICP 후 변색 질문 743
643 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 743
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641 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 752
640 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 754
639 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 757
638 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 757
637 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 759
636 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 763
635 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 769
634 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 771
633 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 771
632 교수님 질문이 있습니다. [1] 779
631 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 779
630 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 783
629 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 795
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