개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:48578 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49789
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 55047
549 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 29
548 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 27
547 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 47
546 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 43
545 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 127
544 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 69
543 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 145
542 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 179
541 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 213
540 플라즈마 살균 방식 [1] 3733
539 표면상태에 따른 코팅 전후 비교(PVD) [2] file 428
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 163
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 162
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 63
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 130
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 190
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 594
532 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 232
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 654
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 431

Boards


XE Login