개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:49688 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2552
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13501
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49688
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61622
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80215
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 97
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 193
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 74
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 177
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 137
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 227
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 156
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 240
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [2] 411
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 239
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 189
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 251
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 189
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 241
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 535
645 plasma 형성 관계 [1] 383
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 536
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 1967
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 3753
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 270

Boards


XE Login