Ion/Electron Temperature 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown]

2012.03.19 14:12

김진근 조회 수:8357

안녕하십니까

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법은 무엇인지 어쭙고자 글을 올리게 되었습니다.

고주파 유도가열(3MHz)을 이용하여 실리콘(Si)을 가열하여 아르곤 분위기에서 실리콘 결정성장을 시키고 있습니다.

(코일은 팬케이크 형태임.)결정 성장을 시킬때 가끔씩 코일에 플라즈마가 발생하며,이로인해 코일arcing이 가끔 발생하여 코일이

소손되는것 같습니다.

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법이 없을지 문의 드립니다.

 

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