Others VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다.
2012.09.07 03:25
안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.
플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.
질문
1.VPP가 어떤건지?
2.VDC가 어떤건지?
3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?
위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.
참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.
정말 감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77194 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20457 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57357 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92941 |
| 385 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2319 |
| 384 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2299 |
| 383 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2294 |
| 382 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2289 |
| 381 |
플라즈마볼 제작시
[1]  | 2268 |
| 380 | Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] | 2264 |
| 379 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2257 |
| 378 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2187 |
| 377 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2168 |
| 376 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2166 |
| 375 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 2152 |
| 374 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 2151 |
| 373 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 2149 |
| 372 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2136 |
| 371 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 2087 |
| 370 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2056 |
| 369 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2048 |
| 368 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 2041 |
| 367 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2039 |
| 366 | chamber impedance [1] | 2029 |