안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77076
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20391
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57300
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68845
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92850
521 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1346
520 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1358
519 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1360
518 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1373
517 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1375
516 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1388
515 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
514 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1394
513 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1396
512 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
511 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1409
510 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1410
509 플라즈마 관련 교육 [1] 1421
508 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1424
507 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1428
506 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1428
505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1440
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1443
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1445
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1447

Boards


XE Login