안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [287] 77333
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20510
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57431
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68970
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92997
330 plasma 형성 관계 [1] 1604
329 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1586
328 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1579
327 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1577
326 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1568
325 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1565
324 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1558
323 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1548
322 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1543
321 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1528
320 ICP lower power 와 RF bias [1] 1524
319 charge effect에 대해 [2] 1523
318 알고싶습니다 [1] 1497
317 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1489
316 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1488
315 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1481
314 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1480
313 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1475
312 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1467
311 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1466

Boards


XE Login