안녕하세요.

DC sputtering과 RF sputtering을 공부하면서 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성에 대해 궁금증이 생겼습니다.

 

기본적인 DC sputtering에서는 음극쪽에 도체를 연결함으로서 처음 양이온을 만들 줄 전자의 존재가 음극 쪽에서 튀어나와 중성원자와 충돌해서 양이온을 만든다는 것은 알고 있습니다.

이 때 이 전자의 출처는 도체 내 자유전자로부터 인가요? 아님 DC전압으로부터의 전자인가요?

 

RF Sputtering에서 부도체를 연결했을 경우 부도체에는 자유전자가 없을텐데 부도체 표면으로 향하는 양이온의 존재는 어떻게 해서 생성이 된건가요?

 

어찌보면 첫 질문의 답이 무엇이냐에 따라 자동적으로 RF스퍼터링의 질문이 해결될 수도 있는 질문 같네요.

 

 답변 부탁드리겠습니다.

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