안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1399
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5185
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5936
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8037
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6045
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2469
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3857
314 Ar plasma power/time [1] 1429
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3968
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17334
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1382
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7160
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1925
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11293
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4127
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 840
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1904
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3043

Boards


XE Login