안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
406 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2403
405 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2426
404 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2432
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2442
402 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2476
401 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2498
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2507
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2534
398 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2562
397 Si Wafer Broken [2] 2571
396 질문있습니다. [1] 2593
395 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2599
394 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2601
393 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2689
392 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2699
391 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2707
390 PR wafer seasoning [1] 2713
389 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2744
388 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2828
387 임피던스 매칭회로 [1] file 2848

Boards


XE Login