안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102105
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24548
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73272
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105485
453 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 3949
452 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1206
451 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1230
450 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2810
449 수중방전에 대해 질문있습니다. [플라즈마 생성 및 방전] [1] 781
448 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1594
447 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [반응기 내벽 변동 및 벽면 불화 정도 판단] [1] 1032
446 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 1144
445 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 1194
444 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1208
443 Frequency에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [전자와 이온의 열운동 특성과 반응 거리] [1] 790
442 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1961
441 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [방전과 에폭시] [1] file 670
440 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [대면 재료의 전기적 특성와 플라즈마 쉬스의 변화] [3] 723
439 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2470
438 Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어] [1] 2070
437 CCP챔버 접지 질문드립니다. [장치의 접지 일체화] [1] file 1602
436 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2879
435 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 4284
434 RF magentron sputtering시 플라즈마 off 현상 [Sputter 문제] [1] 1027

Boards


XE Login