안녕하세요. 반도체 회사에 근무 중인 김동조입니다.

소자제작 공정중 O2 플라즈마를 이용하여 표면을 처리하는 부분이 있습니다.

공정 조건은 300w, 300sccm 0.04mbar 이며 친수성을 위한 표면 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 사항은 일반 상온에서의 표면의 플라즈마 효과가 어느정도 지속이 되는 것인가와,

플라즈마 처리를 한 상태에서 오븐에서 120도 12시간 열처리를 하였을 경우 플라즈마의 효과가 유효한 것인지 궁금합니다.

플라즈마에 관한건 이론적으로만 간단히 알고있었을뿐 회사에 들어오고 처음 사용해 보는 것이라 감이 잘 잡히지 않습니다.

번거로우시겠지만 답변 부탁드립니다.!! 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 101834
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24448
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61100
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73137
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105300
353 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy] [2] 2343
352 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1728
351 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"] [1] 784
350 RIE에 관한 질문이 있습니다. [Sheath 이온 거동 및 bias power] [1] 3065
349 RF frequency와 RF power 구분 39461
348 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2390
347 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [전극 표면 전위] [1] 3332
346 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 937
345 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4179
» O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6922
343 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering] [1] 9008
342 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2121
341 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [플라즈마 생성 조건 및 성질] [1] 686
340 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1191
339 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5672
338 가입인사드립니다. [1] 2051
337 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 1124
336 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2547
335 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1604
334 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1688

Boards


XE Login