현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.

자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.

근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.

그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요

RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.

이게 왜 그런지 알고 싶습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [338] 225949
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 65314
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 102339
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 114436
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 193625
378 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 3355
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 2984
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 3072
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 3830
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 1581
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다. [Corona breakdown, current density] [1] 3210
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 8935
371 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 5174
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 6162
369 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] 3270
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 3955
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 4912
366 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 4173
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 4848
364 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 4714
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 4249
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 3185
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 2134
» 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 3257
359 DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"] [3] 14135

Boards


XE Login