안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 469
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372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5915
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2732
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3436
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368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1468
» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2242
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1760
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2326
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1961
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362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 802
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