안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2549
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365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2563
364 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2328
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2009
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 1048
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1242
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1516
359 DC bias (Self bias) ["Glow discharge processes"] [3] 11638
358 ICP와 CCP의 차이 [Self bias와 Maxwellian distribution] [3] 12866
357 새집 증후군 없애는 플러스미- 플라즈마에 대해서 [광운대 플라즈마바이오연구센터] [1] 910
356 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2112
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352 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1630
351 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [열플라즈마와 "플라즈마 금속학"] [1] 704
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