안녕하세요 직장에서 플라즈마를 사용하는 일반 사원입니다.

챔버내에서 Shower Head와 기판사이에서 기판과 가까운(솟아나온부분) 곳에서 생기는 박막형에 비해 기판과 먼(옆 테두리들어간 부분)곳에 생기는 부산물들이 기존의 박막층보다 엉성하고 입자가 큰 경우 기존의 받아들이던 플라즈마 값에서 변화가 일어나는데 이러한 점을 줄일 수 있는 방법이나 이론을 알고싶어 글 남깁니다. 또한 실제로 이 부산물들이 플라즈마에 어떤 영향을 미치는지 알고싶습니다.semiconductor shower head에 대한 이미지 검색결과

번호 제목 조회 수
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 72
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48822
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 54113
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 62553
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 1930
369 활성이온 측정 방법 [1] 308
» rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 722
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1099
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1026
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1700
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 961
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1278
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 466
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 580
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 641
359 DC bias (Self bias) [3] 7252
358 ICP와 CCP의 차이 [3] 8608
357 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 544
356 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1276
355 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 4742
354 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 1337
353 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 951
352 Impedence 위상관련 문의.. [1] 859
351 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 368

Boards


XE Login