안녕하세요 직장에서 플라즈마를 사용하는 일반 사원입니다.

챔버내에서 Shower Head와 기판사이에서 기판과 가까운(솟아나온부분) 곳에서 생기는 박막형에 비해 기판과 먼(옆 테두리들어간 부분)곳에 생기는 부산물들이 기존의 박막층보다 엉성하고 입자가 큰 경우 기존의 받아들이던 플라즈마 값에서 변화가 일어나는데 이러한 점을 줄일 수 있는 방법이나 이론을 알고싶어 글 남깁니다. 또한 실제로 이 부산물들이 플라즈마에 어떤 영향을 미치는지 알고싶습니다.semiconductor shower head에 대한 이미지 검색결과

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