DC glow discharge 플라즈마 압력에 대하여
2017.11.10 11:27
안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.
이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요
power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에
압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.
power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76889 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57204 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92716 |
| 799 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 13 |
| 798 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 13 |
| 797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 17 |
| 796 | Druyvesteyn Distribution | 22 |
| 795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 30 |
| 794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 35 |
| 793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 60 |
| 792 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 64 |
| 791 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
| 790 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 73 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 75 |
| 788 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 77 |
| 787 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 81 |
| 786 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 83 |
| 785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 88 |
| 784 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 95 |
| 783 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 98 |
| 782 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 121 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 123 |
| 780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 125 |
Glow discharge를 공부하면 쉽게 이해가 됩니다 (본 게시판에서 수차례 설명을 했습니다. 참고하시기 바랍니다). 즉, 플라즈마 내에서 전자가 에너지를 효과적으로 받고 얻은 에너지를 원자/분자에 효과적으로 전달함으로써 빛이 밝아지겠고, 그렇지 못하면 빛의 세기가 줄어들 것입니다. 즉, 전자의 에너지 획득의 과정으로 해석을 해 보기 바랍니다.