플라즈마 소스에서 coupled의 의미는 plasma 생성에 필요한 전자 가열을 위한 에너지 전달을 의미합니다. 즉 에너지 전달 메카니즘으로,  inductively coupled 란 Faraday's induction law로 부터 시간 변화 자기력에 의한 기전력이 전가 가속을 시킴을 의미하며, capacitively coupled 의 의미는 diode 형태의 전극 사이에 형성되는 전기장으로 부터 전자 가속이 이뤄짐을 의미합니다. 이들 coupling 영역은 ICP에서는 skin depth 내에서, CCP에서는 sheath 경계에서 발생합니다. 아울러 인가 전력은 플라즈마 공간 내에서 Joule 가열로도 사용이 되므로, power coupling을 고려하면 전자 가열+줄 가열의 크기를 종합하여, 인가 전력의 플라즈마로의 전력 전달을 의미하는 표현이라 할 수 있고, 그 효율에 대해서 보다 관심을 크게 갖게 됩니다.  본 게시판에서 CCP/ICP/ plasma breakdown 등의 내용을 살펴 보시기 바랍니다.