반도체 업종에서 근무하는 사원 입니다.


PVD Chamber에서 ESC 사용하는데 Center tap bias의 역할과 Center tap bias로 생길 수 있는 문제점에 대해서


궁금하여 질문 드립니다..


아직 초년생이라 장비 manual을 보는데도 애로사항이 많아 문의 드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77080
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20394
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57304
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68847
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92855
681 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 592
680 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 597
679 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 598
678 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 599
677 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 600
676 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 601
675 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 603
674 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 606
673 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 610
672 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 613
671 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 617
670 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 618
669 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 620
668 RF Sputtering Target Issue [2] file 622
667 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 623
666 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 624
665 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 630
664 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 634
663 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
662 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 638

Boards


XE Login