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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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DC Plasma 전자 방출 메커니즘
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플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
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MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
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395 |
플라즈마 기초입니다 [Breakdown과 electrolysis]
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394 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 3294 |
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393 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 3600 |
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392 |
플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE]
[1] | 3972 |
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PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning]
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플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화]
[1] | 7782 |
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플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리]
[1] | 2030 |
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388 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking]
[1] | 3727 |
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387 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 3780 |
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386 |
VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target]
[2] | 5549 |
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385 |
아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance]
[1] | 3299 |
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384 |
ICP 후 변색 질문
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383 |
Plasma etcher particle 원인 [Particle issue와 wafer의 sheath]
[1] | 5169 |
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382 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control]
[1] | 4897 |
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381 |
Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정
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380 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown]
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플라즈마는 이온화된 가스상태이다'라고 정의하는 분도 계십니다.