DC glow discharge DC Plasma 전자 방출 메커니즘

2018.04.19 11:22

조현일 조회 수:1202

반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

전기, 전자 전공으로 최근에 Plasma에 관심이 생겨서 공부하고 있습니다.


DC Plasma에서 전자방출 메커니즘이 여러가지가 있는 것으로 알고 있습니다.


타운센트 방전 이론에 의한 알파, 감마 작용는 이해가 가는데,

1. 플라즈마 내부 광자에 의한 음극에서의 이차 전지 방출(Photoemission)

2. 준안정(metastable) 종이 음극을 때릴 때 이차 전자 방출

위의 두가지가 무엇을 의미하는지 잘 모르겠습니다.


알고계시는 선배님들 알려주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [335] 104091
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24761
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61693
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73586
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106161
613 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1677
612 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2668
611 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1119
610 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2835
609 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2086
608 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1657
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 523
606 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3971
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [소수/친수성 조절 연구] [1] 3591
604 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1684
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 2073
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1789
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1473
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1422
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장] [1] 2444
598 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 3896
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산] [1] 2880
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 4336
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 426
쓰기
태그

Boards

XE Login