Plasma in general 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [반도체 공동 연구소]
2018.05.03 11:20
대학교 종합설계 프로젝트 과제를 위해 NF3/NH3 플라즈마 가스를 이용한 dry cleaning 실험을 진행해야하는데,
관련해서 플라즈마응용연구실에서 외부 학생들이 직접 실험 or 실험 참관이 가능한지 여쭤보고 싶어서 문의 남깁니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] | 102738 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24677 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 61391 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 73462 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 105796 |
| 829 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate] | 148772 |
| 828 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134608 |
| 827 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 97704 |
| 826 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 80419 |
| 825 | Silent Discharge | 64650 |
| 824 | VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] | 55961 |
| 823 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] | 48923 |
| 822 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43941 |
| 821 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 41669 |
| 820 | 대기압 플라즈마 | 40942 |
| 819 | Ground에 대하여 | 40078 |
| 818 | RF frequency와 RF power 구분 | 39509 |
| 817 | Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] | 36738 |
| 816 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] | 36420 |
| 815 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35310 |
| 814 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 33020 |
우리 연구실 장비에서는 해당 가스 실험은 어렵습니다. 아쉽지만 반도체 공동 연구소 등 화공과 시설을 사용하여야 할 것 같군요.