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플라즈마 정보 인자를 이용한 SiO2 식각율 가상계측 개발 방법론
2018.05.08 19:27
pal_webmaster
조회 수:722
학회명
한국반도체디스플레이기술학회
연도
2018
수상자
장윤창
상명
우수논문상
플라즈마 정보 인자를 이용한 SiO2 식각율 가상계측 개발 방법론
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목록
학회명
연도
상명
수상자
제목
American Vacuum Society
2017
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Hyun-Joon Roh
Plasma Information Based Virtual Metrology (PI-VM) for Nitride Thickness in Multi-Layer PECVD
ICOPS
2015
Outstanding Student Award
Hyun-Joon Roh
Improvement of Dynamic Range of Electron Energy Probability Function from Two Asymmetrical Collecting Area Probe Data Filtered by Savitzky-Golay and Blackman Window Methods
한국반도체디스플레이기술학회
2018
우수논문상
권지원
Development of Second Positive System based N2 Collisional Radiative Model
AEC/APC Symposium Asia 2021
2021
Student Award
권지원
Development of Si Etch Profile Virtual Metrology using Plasma Information(PI-VM) in SF6/O2/Ar Capacitively Coupled Plasma
KAPRA
2013
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김곤호 외
자기탐침을 이용한 대면적 고주파 축전결합형 플라즈마원에서 정상파 효과 측정
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2014
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김남균
Determination of Ion Concentration in a Ar/Xe and He/Ar Filament Discharged Multi-dipole Plasma Source
K-J Seminar
2016
Best Poster Award
김남균
Observation of Ions’ Motion near a Multi-Ion-Species and Weakly-Magnetized Plasma Sheath
ICMAP
2018
Best Poster Award
노기백
Enhancement of Crack through the Depth of Grain Growth on Tungsten under Transient High Heat Flux
한국표면공학회
2018
우수 포스터 발표상
노기백
ELM 고열속 인가에 따른 텅스텐의 결정 성장 및 균열 발생 심화 관찰
KAPRA & KPS/DPP
2023
우수 포스터 발표상
노기백
Enhancement of Sputtering Yield on Tungsten with Argon Ion Fluence
한국반도체디스플레이기술학회
2017
최우수논문상
노현준
장비 지능화를 위한 플라즈마 정보 기반의 가상 계측 모델 개발
한국반도체디스플레이기술학회
2017
우수논문상
노현준
반도체/디스플레이 공정 진단 및 제어를 위한 플라즈마 정보 생성 방법론 소개
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2014
Student Award
박설혜
Enhancement of Virtual Metrology Performance for Plasma-Aided Processes by Using Process Plasma Monitoring
KAPRA & KPS/DPP
2022
우수 포스터 발표상
배남재
고종횡비 식각 공정의 표면 식각/증착 반응 모델 적용 플라즈마 정보 인자 기반 하드 마스크 넥킹 가상 계측 기술 개발
KAPRA
2016
최우수 포스터 상
배병준
충돌성 음극 쉬스 모델을 통한 대기압 유전체 격벽 방전기의 음극 강하 영역 크기 연구
KAPRA & KPS/DPP
2021
우수 포스터 발표상
송재민
장비 플라즈마 데이터 기반 지능형 제어 시스템 개발
1st International Fusion and Plasma Conference
2022
Best Poster Award
송재민
Plasma information based Advanced Process Controller for Plasma Etch Process
한국반도체학술대회
2017
Best Poster Award
유상원
Development of Phenomenological Model Based RF Power - Electron Density Controller for SF6/Ar Etch Plasma
ICMAP
2018
Best Poster Award
유상원
Model Predictive Control of Electron Density for Ar/SF6 Etching Plasma
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2018
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유상원
Real-time Etch Control to Reduce First Wafer Effect in SF6/O2/Ar Plasma
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