Langmuir Probe 고전압 방전 전기장 내 측정

2018.09.18 09:43

석의수 조회 수:1084

안녕하세요. 한국기계연구원과 전기집진기 관련하여 테스트를 진행중인데,

여기에 플라즈마나 랭뮤어프로브와 유사한 기술이 관련있는 것으로 알고있습니다.

400mm*400mm 사이즈의 2개의 판재가 200mm 간격으로 배열되어있고, 그 중간 지점에 방전침이 있습니다.

방전판과 방전침 사이에 20kV정도 고전압을 인가하면 파란 방전이 약하게 형성됩니다.

X,Y,Z축으로 움직일 수 있는 모션 스테이지 끝부분에 알루미나로 외부를 절연시킨 탐침침을 고정했습니다.

프로브를 밀어넣어 멀티미터로 측정하여 아래 그림와 같은 결과가 나왔습니다.

2018-09-18_093510.png

저는 단순히 멀티미터에 방전판을 공통라인으로 연결하고 프로브에서 측정하였습니다만.

바이어스전압을 인가하여 측정을 해야한다는데, 바이어스전압이 어떤 의미인지? 어떻게 연결하여야하는지 도움을 받고 싶습니다.

현재는 프로브에 반대극성의 고전압을 연결하여 측정하는 방법을 생각중에 있습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [293] 77381
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20520
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57454
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68987
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93009
573 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1075
» 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1084
571 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1096
570 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1105
569 Plasma Arching [1] 1108
568 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1111
567 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1117
566 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1128
565 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1136
564 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1151
563 자기 거울에 관하여 1152
562 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1153
561 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1155
560 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1160
559 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1162
558 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1162
557 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1164
556 Group Delay 문의드립니다. [1] 1170
555 wafer bias [1] 1171
554 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1175
쓰기
태그

Boards

XE Login