안녕하세요.

수중저전압 플라즈마방전을 이용한 제품을 개발하고 있는데 조언을 얻고자 합니다.

금형개발한 전극에 DC24를 인가하여 상수도수안에서 적당량의 미세기포를 발생시켰으며, 리스테리아균, 대장균등을 99.9% 이상의

살균결과를 얻었읍니다. 그런데, 해수의 비브리오균에 대한 살균여부를 문의한 바이어 요청으로, 

염도 1%의 물에 금형개발한 전극을 담그고, DC24V를 인가하였더니 미세기포가 상수도수에 비해 적게 발생하는 것입니다.

염도 1%(최대 2%)의 물에서, 금형수정없이, DC24V로  미세기포를 좀 더 생성시킬 방안이 없을까요??

(상수도수에서 전극에 걸리는 전류치는 4A수준임.) 

참고로, 1) 전기전도도가 높은 유체에서 미세기포가 덜 활성화되는 정확한 이유를 알고 싶습니다..

             2) 상수도수에서 전류치가 4A가 걸리면, 염수에서는 어느정도가 될까요? 

*바쁘시더라도 꼭~~ 답변부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102068
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24542
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61187
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73235
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105448
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1199
512 Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료] [1] file 1047
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 20041
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 1097
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4164
508 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1332
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential] [2] 1553
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time] [1] 3693
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소] [1] 784
504 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 2029
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2559
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher] [1] 13873
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 3037
500 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1458
499 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3303
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성] [1] 832
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2071
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2021
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model] [2] 4361
494 대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계] [2] 1425

Boards


XE Login