Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

야키소바빵 조회 수:440

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.


혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4970
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16324
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63782
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83588
440 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 342
439 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2112
438 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1024
437 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 967
436 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1415
435 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2377
434 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 448
433 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 811
432 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1723
431 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 363
430 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 455
429 자기 거울에 관하여 1020
428 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 704
427 Descum 관련 문의 사항. [1] 2437
» RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 440
425 Plasma Generator 관련해서요. [1] 752
424 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1227
423 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 353
422 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5641
421 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 940

Boards


XE Login