안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.

 RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변)  기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.

Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?

주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.

조언 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102091
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24545
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61190
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73246
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105464
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1560
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6601
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS] [2] 1078
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 713
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1223
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1920
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1333
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6190
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 1149
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 2029
563 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2609
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2869
561 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 740
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3601
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 17013
558 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1816
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2685
556 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1353
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 1042
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 3181

Boards


XE Login